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过渡族金属Fe和Cu在硅片中的行为研究

过渡族金属Fe和Cu在硅片中的行为研究

本文摘要:过渡族金属Fe和Cu在硅片中的行为研究 过渡族金属Fe和Cu在硅片中的行为研究 赵江伟 北京有色金属研究总院 摘要:集成电路技能的晋升极大地促进了半导体财产的成长,21世纪,陪同物联网、人工智能的成长,半导体财产已经成为鞭策国民经济高质量成长的关键性财产。硅质料作为一种具有诸多长处的半导体质料,它的应用十分遍及。今朝,集成电路的特征线宽逐渐减小,已经进入纳米级时代,过渡族金属对电路的影响越来越显著。

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Fe和Cu作为普遍存在于硅片加工历程中的过渡族金属,其在硅片中的沾污和扩散行为具有很大的研究价值。本文主要研究了 Fe在硅片中的沾污行为和Cu在硅片中的外扩散行为。操纵差别的条件对硅片举行了研磨、腐化等处置惩罚,接纳外貌光电压法(SPV)研究了差别外貌状态对硅片Fe沾污的影响;通过差别的热处置惩罚条件,操纵全反射X射线荧光光谱仪(TXRF)研究了差别掺杂种类及差别掺杂浓度的硅片中Cu的外扩散行为。

主要得出了以下结论:(1)硅片外貌粗拙度可以或许影响外貌在溶液中的Fe沾污。硅片的外貌越粗拙,对Fe离子的吸附面积越大,当硅片浸入含有Fe离子的溶液中,外貌会附着更多的Fe离子。(2)疏水性外貌对Fe离子的吸附感化较小,而亲水性外貌对Fe离子具有较强吸附感化。

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酸腐化硅片颠末以HF酸末端的改良型RCA清洗后,外貌疏水性加强,相... 更多 关键词:过渡族金属; 硅片; 沾污行为; 外扩散; 导师:周旗钢; 分类号:O613.72;TN304.12返回,检察更多。


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